AlN Keramisk Underlag

AlN Keramisk substrat har fremragende varmeledningsevne, lav dielektrisk konstant og dielektrisk tab og pålidelig isoleringsevne; derudover har AlN-substrat også fremragende mekaniske egenskaber, ikke-toksisk, høj temperaturbestandighed og kemisk korrosionsbestandighed. AlN (aluminiumnitrid) keramisk substrat har en termisk ekspansionskoefficient svarende til silicium. Som et nyt keramisk materiale har aluminiumnitrid tiltrukket sig mere og mere opmærksomhed fra ingeniører og forskere. AlN-keramiske plader produceret af vores firma anvendes i vid udstrækning i kommunikationsenheder, LED med høj lysstyrke, elektroniske enheder og andre industrier. Det er et elektronisk keramisk materiale med fremragende ydeevne. Følgende er kendetegnene ved vores AlN-plade:

(1) Høj varmeledningsevne, 5-10 gange den af ​​aluminiumoxidkeramik, svarende til meget giftigt berylliumoxid (BeO);

(2) Den termiske ekspansionskoefficient (4,3 x 10^-6/ ℃) matcher med halvleder-siliciummaterialet (3,5-4,0 x 10^-6/℃);

(3) Gode mekaniske egenskaber, højere bøjningsstyrke end BeO-keramik og tæt på aluminiumoxid;

(4) Fremragende elektrisk ydeevne, ekstremt høj isolationsmodstand og lavt dielektrisk tab

(5) Kredsløbsmaterialers kompatibilitet er god, ledninger med flere lag kan udføres, og høj densitet og miniaturisering af pakken kan realiseres;

(6) Ikke-giftigt og gavnligt for miljøbeskyttelsen.

Typiske applikationer

Materialeegenskaber (AlN)

AlN-pladesubstratet produceret af UNIPRETEC Ceramic Technology har fremragende termiske, mekaniske, elektriske egenskaber, høj varmeledningsevne, høj styrke og andre fremragende egenskaber. Med den hurtige udvikling af mikroelektronisk udstyr og udstyr er AlN-aluminiumnitridsubstrater blevet brugt i vid udstrækning. Enhver forespørgsel eller kontakt ville være meget velkommen.

Populære tags: aln keramisk substrat, Kina, leverandører, producenter, fabrik